ABD, Çip Tasarım Yazılımlarının Çin’e Satışını Yasaklıyor ABD Hükümeti’nin getirdiği yeni yasakla birlikte GAA-FET EDA yazılımı artık Çin kaynaklı hiç bir şirkete sunulmayacak. Öteki bir deyişle, beşerler artık on milyarlarca transistör içeren çipler tasarlayamayacak. EDA (elektronik tasarım otomasyonu) yazılımı, çip mimarları tarafınca mikro tasarım idaresi için kullanılıyor.
Synopsys, Cadence ve Siemens esas EDA yazılım tedarikçileri içinde yer alıyor. Intel’in satışını yapmadığı şirket içi bir EDA yazılımı kullandığı söyleniyor. Lakin bu durum şirketin TSMC ile yaptığı büyük mutabakatlarla birlikte değişebilir.
“Gates-all-around” yahut GAA teknolojisi, 3nm ve 2nm silikon üretim süreçlerinde transistörler oluşturmak için hayati ehemmiyet taşımakta. Samsung esasen 3nm teknolojisi için GAA tekniğini kullanıyor. TSMC 2nm (2N) sürecinde GAA tekniğine geçiş yapmayı planlıyor. Intel ise yüksek ihtimalle Intel 20A (20 angstrom yahut 2 nanometre) nodu için yeni GAA sürecini benimseyecek.
Hem Intel birebir vakitte TSMC, 2024’te seri üretim için GAAFET’ler tarafınca desteklenen düğümleri piyasaya sürecek. Öte yandan ABD Hükümeti, Çin’e EUV litografi makinelerinin yanı sıra 128 katman yahut 14 nm’den daha büyük üç boyutlu NAND flaş çipleri üreten makinelerin satışını aslına bakarsan yasaklamıştı. Yaptırımlarını genişleten Amerika idaresi artık yazılım tabanlı mahzurlar de getiriyor.
Synopsys, Cadence ve Siemens esas EDA yazılım tedarikçileri içinde yer alıyor. Intel’in satışını yapmadığı şirket içi bir EDA yazılımı kullandığı söyleniyor. Lakin bu durum şirketin TSMC ile yaptığı büyük mutabakatlarla birlikte değişebilir.
“Gates-all-around” yahut GAA teknolojisi, 3nm ve 2nm silikon üretim süreçlerinde transistörler oluşturmak için hayati ehemmiyet taşımakta. Samsung esasen 3nm teknolojisi için GAA tekniğini kullanıyor. TSMC 2nm (2N) sürecinde GAA tekniğine geçiş yapmayı planlıyor. Intel ise yüksek ihtimalle Intel 20A (20 angstrom yahut 2 nanometre) nodu için yeni GAA sürecini benimseyecek.
Hem Intel birebir vakitte TSMC, 2024’te seri üretim için GAAFET’ler tarafınca desteklenen düğümleri piyasaya sürecek. Öte yandan ABD Hükümeti, Çin’e EUV litografi makinelerinin yanı sıra 128 katman yahut 14 nm’den daha büyük üç boyutlu NAND flaş çipleri üreten makinelerin satışını aslına bakarsan yasaklamıştı. Yaptırımlarını genişleten Amerika idaresi artık yazılım tabanlı mahzurlar de getiriyor.